Reference4

IPPJ-AM-26(1983)

"ANGULAR DEPENDENCE OF SPUTTERING YIELDS OF MONATOMIC SOLIDS"

Y.YAMAMURA, Y.ITIKAWA and N.ITHO

INSTITUTE OF PLASMA PHYSICS NAGOYA UNIVERSITY

incidence heavy Ion

f_s

：垂直入射におけるスパッタリング収率
：斜め入射におけるスパッタリング収率
：実験における未知パラメータ


入射イオン番号が 3 から 92ならば、

上記の式をアプレット内に組み込むと、ユーザ側からの設定項目が増加し非常に使いにくくなります。
しかしながら、fsはおおよそ1.5〜2.0の間で変化する事が解っています。
よって本アプレットでは上記の式を用いずに、ユーザ側での任意設定としています。
つまり、角度依存性のグラフについては、参考程度と考えて頂ければ幸いです。