RF プラズマ CVD 装置

RFスパッタ蒸着装置を流用。原料ガスの導入には、エタノールの入ったビーカを真空チャンバ内に置くという大胆な方法を採用。上下の電極(斜線部)間に高周波電界(13.56MHz)を印加し、プラズマを発生させる。ロータリーポンプで排気すると、約２Torrという平衡圧力を得た。