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入射イオン蓄積効果による仕事関数の変化
世の中に存在する様々な物質は、それぞれ固有の仕事関数を有しています。そしてその仕事関数は、
試料に電子ビーム、あるいはイオンビームを照射し
、その際に放出される電子（二次電子と呼びます）を測定することによって求められます。
しかし、それらのビーム照射によって試料の状態が変化してしまうとすれば、それは純粋に
その試料の
仕事関数を測定した、ということにはなりません。
電子ビーム照射の場合は試料の状態変化はほとんど発生しないのですが
（電子は試料を構成している原子に較べて限りなく小さく軽い為）、
イオンビームの場合は
試料状態変化を考慮に入れなくてはなりません。
実はこのイオンビーム照射による試料状態変化及びそれに起因する
仕事関数の変化、ということ
に関しては現在まであまり議論がなされて来ませんでした。
以上のような背景により、卒業研究として”入射イオン蓄積効果による仕事関数の変化に関する研究”
を行いました。
なお、本研究は
大阪大学大学院工学研究科応用物理学専攻志水研究室
との共同研究として行われました。
実験装置紹介
実験はほとんどこの装置を用いて行いました。
電子ビーム放出用の電子銃、イオンビーム放出用のイオン銃、
装置内部を超高真空にする為の様々なポンプ、データ処理用のコンピュータ
などが
接続されています。ちなみに、JAMPとは
JEOL(日本電子)AugerMicroProbeの略。
（大阪大学志水研究室所有。摂南大学井上研究室には、
JAMP-10があります。
JAMP-10のほうが新型です。）
清浄な試料を、真空蒸着法により製作しました。
その際に使用した通電加熱型エヴァポレータです。
自作です。
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